|
|||||
|
|
| 垂直式炉管栅氧化工艺的精确控制 | |
| 引用本文： | 翟志刚,朱立平,高文文,李远哲.垂直式炉管栅氧化工艺的精确控制[J].才智．人事人才,2013(23). |
| 作者姓名： | 翟志刚 朱立平 高文文 李远哲 |
| 作者单位： | 中芯国际集成电路制造 天津有限公司 天津 300385 |
| 摘 要： | 随着半导体工艺的发展，器件的速度越来越快，栅氧化层的厚度也越来越薄，因此如何对该工艺进行精确控制成为了保证器件性能的关键。本文主要介绍了在垂直式炉管上如何对该工艺进行管控。 |
| 关 键 词： | 栅氧化 工艺控制 垂直式炉管 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |