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| 脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜中衬底温度对ZnO薄膜结构的影响 | |
| 引用本文： | 刘涛. 脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜中衬底温度对ZnO薄膜结构的影响[J]. 榆林高等专科学校学报, 2010, 20(4) |
| 作者姓名： | 刘涛 |
| 作者单位： | 商洛学院,物理系,陕西,商洛,726000 |
| 摘 要： | 采用溶胶--凝胶法制备高纯的靶材,利用PLD法生长薄膜,成功地在Si衬底上生长了高质量的ZnO薄膜,系统的研究了衬底温度对薄膜生长的影响.采用XRD对薄膜结构进行分析.XRD测试表明,大部分薄膜都具有高度的C轴择优生长取向性,只有衬底温度过高薄膜结构才发生改变. |
| 关 键 词： | 溶胶--凝胶 脉冲激光沉积(PLD) ZnO薄膜 X射线衍射(XRD) |
Effect of the Substrate Temperature in the Preparation of ZnO thin Film by the Pulse Laser Deposition |
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