C(3Pg)+SiO(X1∑+)体系的反应碰撞轨迹 |
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引用本文: | 陈泽琴.C(3Pg)+SiO(X1∑+)体系的反应碰撞轨迹[J].西华师范大学学报(自然科学版),2009,30(3). |
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作者姓名: | 陈泽琴 |
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作者单位: | 西华师范大学化学化工学院,四川,南充,637009 |
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基金项目: | 重庆市科学技术基金资助课题 |
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摘 要: | 使用经典轨迹法研究了反应C(3Pg)+sio(X1∑+,V=0,J=0)碰撞轨迹.碳化硅合成反应C(3Pg)+SiO(X1∑+,V=0,1;J=0)→SiC(X1∑+)+O(3Pg)存在阈能,反应截面存在一个极大值和最佳反应能量.在SiC最佳产率区,通过反应物的振动激发并不能使SiC产率明显提高,基态下SiC合成反应的最佳能区为该反应的最佳产率区.
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关 键 词: | 分子反应动力学 平行络合反应. |
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