首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

制备工艺和Cu层厚度对Ni/Cu/Fe_(40)Co_(60)多层膜GMR效应的影响
引用本文:薛亚飞,郑鹉,王艾玲,姜宏伟,刘丽峰,陈志争,王利娜.制备工艺和Cu层厚度对Ni/Cu/Fe_(40)Co_(60)多层膜GMR效应的影响[J].科学咨询,2008(3).
作者姓名:薛亚飞  郑鹉  王艾玲  姜宏伟  刘丽峰  陈志争  王利娜
作者单位:首都师范大学;
摘    要:实验采用离子束溅射的方法,在氧化硅衬底上制备了结构为Ta/Ni/Cu/Fe40Co60/Ta多层膜.研究了Cu层厚度对多层膜磁电阻的影响以及在制备Fe40Co60层和Ni层的过程中加相互垂直的外磁场对磁电阻的影响。实验发现,当Ta层厚度为5nm,Fe40Co60层厚度为6nm,Cu层厚度为2.6nm,Ni层厚度为6nm时,制备态薄膜GMR值达到1.6%,在各层厚度不变的情况下,在制备Fe40Co60层和Ni层过程中加相互垂直的外磁场可以使制备态薄膜的GMR值增加到2.3%。

关 键 词:多层膜  巨磁电阻  自旋阀  
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号