氧化锌薄膜的蒸发氧化制备及其光电特性研究

采用真空蒸发镀膜的方法分别在玻璃和硅片衬底上沉积金属锌前驱体,再在空气中通过不同温度的退火氧化处理制得氧化锌薄膜,主要研究了不同退火温度对氧化锌薄膜光电特性的影响.实验表明,在一定退火温度样品的方块电阻突增,PL发射峰出现红移,文中对结果进行了初步讨论.     

纳米氧化锌的制备及其研究进展

纳米氧化锌具有许多特殊的性能,本文介绍了纳米氧化锌在各方面的应用状况;综述了国内外纳米氧化锌的制备方法及研究进展;讨论了目前纳米氧化锌制备中存在的问题.     

Zn纳米粒子/ZnO纳米棒的光催化降解特性

利用滚压振动磨在干法室温的条件下制得最大粒径为50～80 nm、最小粒径为3～5 nm的Zn纳米颗粒,并在一定的条件下使其与水蒸气反应,得到Zn和棒状ZnO的混合物.水解温度为260 ℃、反应2 h得到Zn含量为97.91%混合物,其分散性能好、比表面积大,光催化降解曙红B的效果最佳,在距离为6 cm的30 W紫外灯照射下,25 min就已降解95%,1 h后几乎完全降解,其光催化效果和ZnO纳米片相当,明显优于纯的ZnO纳米棒.这种优异降解特性归功于水解过程中生成的独特的ZnO棒状纳米结构及金属Zn的存在.     

新型纳米填料制备及流体力学性能研究

采用阳极氧化法自制新型纳米铜θ环填料,利用SEM分析和润湿性测定研究纳米化处理前后的填料表面性能,并在塔内径φ100 mm填料塔中,以空气-水为工质进行流体力学性能测试。结果表明:纳米化处理后填料表面形貌特征发生较大改变,其泛点气速较普通填料高5%以上。     

纳米氧化锌的制备及应用

纳米氧化锌有许多独特的性能,应用前景广泛。本文综述了目前纳米氧化锌的各种制备方法,并介绍了纳米氧化锌在各领域的具体应用。     

纳米锆钴复合氧化物的制备及其催化性能研究

以Co（NO3）2·6H2O和ZrOCl2、PVA等为基本原料，采用溶胶-凝胶法制备出前驱体，前驱体经高温煅烧获得锆钻复合氧化物粉体．然后通过TG—DTA、FT—IR、XRD等方法对前驱体及产物的物性和结构进行表征，揭示其内在的物理化学特性，并对其催化性能进行了研究．     

氧化锌薄膜的生长条件对其结晶及光学特性的影响

采用射频磁控溅射方法在硅（100）衬底上制备了ZnO薄膜,运用X射线衍射仪（XRD）分析了不同的生长条件和退火处理对ZnO薄膜结晶特性的影响．应用谢乐公式讨论了不同制备条件下晶粒直径．采用金相显微镜观察样品抛光后的横截面形貌来进一步验证XRD的分析结果．研究结果表明在溅射功率为120w．衬底温度为500C时可制备沿C轴取向生长且品质较好的ZnO薄膜．退火后,应用X射线衍射仪分析可知．晶粒直径可增至20nm左右,但晶面取向有所变化．由布拉格方程讨论了退火处理对样品晶面间距的影响．以此分析了可能的薄膜应力类型的变化．经金像显微镜可观察到氧化锌的柱状生长．应用日本岛津RF-5301PC型紫外-可见分光光度计测试ZnO薄膜的光致发光谱（PL）测的激发波长为363nm和463nm     

纳米材料特性及其在冶金工业应用的展望

论述了纳米材料在冶金工业的应用前景,提出了冶金工业推广应用蚋米材料值得重视的若干问题。     

氧化锌压敏陶瓷的制备与表征

简析纳米氧化锌压敏陶瓷材料的概念、特性、表征、应用现状,以及制备纳米氧化锌的常见方法和工艺流程,并探讨了纳米氧化锌压敏陶瓷的结构、电参数和导电机理.     

光致变色涂料的制备及其性能研究

配制了一种螺噁嗪光致变色聚丙烯酸酯涂料。研究了涂料的光致变色性能和抗疲劳性能,结果表明,涂膜在紫外灯照射下由无色变为蓝色,这种变化是可逆的。而且,紫外灯连续照射8小时后,涂膜仍具有良好的可逆光致变色性能,证实了这种光致变色涂料具有较高的抗疲劳性能。     

干法室温振动制备超微颗粒的理论与应用

采用振动研磨的方法制备超微颗粒的理论研究表明,外力所作的功克服了材料的内聚力使材料发生局部变形,当局部应力超过临界剪切应力时产生断裂口,裂口的形成释放了物料内部的变形能,促使裂纹继续扩展形成新的表面,碰撞过程中振动能量转化为新生颗粒的表面能、热能和化学能.扫描电子显微镜和透射电子显微镜图像显示,研磨过程中固体颗粒于结构薄弱处发生塑性变形直至颗粒破碎,随着研磨时间的增加,颗粒不断细化,粒度分布趋于均匀.X射线衍射分析可见,样品的晶体结构和化学成分均未改变,颗粒细化过程中没有新物相产生.     

TEA辅助ZnO微晶的水热合成及生长机理

采用TEA辅助水热法,以醋酸锌为前驱物合成榛子状和纺锤状ZnO微晶。XRD结果表明这两种ZnO微晶均为结晶良好的六方纤锌矿结构。利用FESEM和TEM研究了ZnO微晶的形貌,并初步探讨了其生长机理,研究表明TEA和水热反应时间对ZnO微晶的形貌和尺寸有重要影响。     

ZnO:Al透明导电薄膜的制备与性能研究

运用溶胶-凝胶技术,在普通玻璃基片上制备Al3 掺杂的ZnO透明导电薄膜.采用X-射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的结构和形貌进行了表征,通过紫外-可见吸收光谱和标准四探针法对其光电性能进行了研究.结果表明,采用溶胶-凝胶法制得的ZAO薄膜为纤锌矿型结构,呈C轴方向择优生长;在适宜的条件下,薄膜的可见光透过率达到80%以上;电阻率为3.1×10-3Ω.cm;涂层厚度、预处理温度和热处理温度对薄膜结构和光电性能有较大影响.     

ZnO纳米结构/多孔硅复合体系的结构和发光特性研究

利用脉冲激光沉积的方法分别在硅片和多孔硅衬底上沉积ZnO薄膜作为种子层,随后用溶液法生长了ZnO纳米棒,考察了衬底对纳米棒结构和发光性能的影响.XRD和SEM测量表明,制备的ZnO纳米棒为六角纤锌矿结构,有较好的c轴择优生长趋势,ZnO纳米棒顶端为平顶状.不同衬底生长ZnO纳米棒阵列的结构有很大差异.光致发光谱显示,多孔硅的橙红光和ZnO的发光叠加在一起,ZnO纳米结构/多孔硅复合体系在可见光区有很强的光致发光现象.     

溶胶-凝胶法制备氧化锌薄膜

采用了溶胶-凝胶工艺在普通的玻璃载玻片上成功地制备出具有c轴择优取向性、高的可见光透光率、平整均匀的氧化锌薄膜。通过XRD、AFM以及UV光谱仪等分析,其结果表明:所制备的氧化锌薄膜具有纤锌矿型结构,表面均匀致密,薄膜晶粒尺寸大约在40～90nm,溶胶浓度增大时,其晶粒大小呈增大的趋势。随着涂膜层数的增加,薄膜的(002)方向的取向度增加。薄膜在可见光区的光透过率>85%,在近紫外光波段透射率急剧减小,对应的禁带宽度为3.34eV。     

基片表面朝向对ZnO纳米线生长机理的影响

采用热蒸发ZnO粉末法,以金膜为催化剂,在两片表面分别朝上和朝下的Si(100)基片上生长ZnO纳米线(样品分别标为1#和2#)。X射线衍射(XRD)图谱上只存在ZnO的(002)衍射峰,说明ZnO纳米线沿(001)择优取向。通过扫描电子显微镜(SEM)表征发现,ZnO纳米线整齐排列在Si基片上,直径在100nm左右,平均长度为4μm。通过分析得出,两种基片上生长的ZnO纳米线的生长机理是不相同的:1#样品,在基片表面上先生长ZnO薄膜,再在薄膜上生长ZnO纳米线;2#样品,ZnO纳米线直接外延生长在基片表面。结果显示基片表面的朝向影响ZnO纳米线的生长机理。     

ZnO薄膜的发光特性分析

分析了ZnO薄膜的发光特性。结果表明,ZnO薄膜的红光发射与氧空位和间隙位锌有关,绿光和蓝光的发射不但与氧空位和间隙位锌有关,还和锌空位有关。     

银花状球的室温合成及其光学特性

以柠檬酸三钠和乙二醇为辅助,在室温环境中反应2 h成功合成了纳米Ag花状球.用粉末X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDX)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)以及紫外-可见分光光度计(UV-VIS)等对产物进行表征.研究表明,产物结晶性良好,产率高,形貌规整且粒径分布均匀,花状球的平均直径为950 nm.产物于243 nm处产生强的紫外吸收峰.通过对Ag花状球形成机理和实验条件进行系统探讨,提出了三步反应机理,同时发现柠檬酸三钠和乙二醇对产物的形貌和尺寸起着关键作用.     

光学平台隔振系统结构参数的优化设计

针对使用空气弹簧隔振器的光学平台传递函数进行了研究.对平台固有频率和传递函数的计算结果进行曲面拟合,并利用拟合曲面形成目标函数,进行平台隔振系统结构参数的优化设计计算.结果表明,要获得最佳隔振效果,应取相对阻尼系数ξ越小越好,但ξ过小使系统稳定性变差.最优值ξ为0.1～0.15,主空气室与附加空气室的容积比k为0.28.