Ta/Al合金薄膜TCR的方差分析

在用直流共溅射法制备Ｔａ／Ａｌ合金电阻薄膜的工艺中，研究了主要工艺参数，例如靶基距、气压、溅射电压和热处理时间等对薄膜电阻温度系数（ＴＣＲ）的影响。采用方差分析和正交试验方法获取薄膜的最佳工艺条件和ＴＣＲ值。结果表明只要适当选取和很好控制四种主要工艺参数就可以制出ＴＣＲ性能优良的Ｔａ／Ａｌ合金薄膜，同时证实了方差分析法行之有效。     

制备立方氮化硼薄膜新方法

利用高真空中磁场控制的热电子弧光放电离化N2,获得高离化镀等离子体与电子枪蒸发硼配合建立磁控弧光放电增强等离子体--活化反应离子镀方法。并用此方法制备了氮化硼薄膜,红外光谱和X光衍射测量表明,薄膜是纯立方相氮化硼薄膜。     

薄膜太阳能电池靶材的研究进展

近年来,薄膜太阳能电池产业发展较快,但由于设备和靶材等价格较高,如何制备成本更低廉的靶材是未来的改进方向,本文主要论述了薄膜太阳能电池靶材的研究进展及一种氧化锌铝靶材的制备方法。     

ZnO薄膜的发光特性分析

分析了ZnO薄膜的发光特性。结果表明,ZnO薄膜的红光发射与氧空位和间隙位锌有关,绿光和蓝光的发射不但与氧空位和间隙位锌有关,还和锌空位有关。     

任意偏置磁场中微波静磁波传播特性

研究了任意倾斜的直流偏置磁场作用下磁光薄膜中激发的微波静磁波传播规律,为下一步分析基于静磁波的磁光Bragg器件衍射性能提供基础。计算了YIG薄膜中传播的静磁正向体波特性,结果表明:在倾斜偏置磁场中沿不同方向激发的静磁波具有不同的辐射阻抗,这与垂直磁化情形明显不同;适当倾斜偏置磁场可降低静磁波的插入损耗,从而可增强静磁波对导波光的衍射效应。     

反应磁控溅射法制备TiO2薄膜

采用反应磁控溅射法在不同条件下制备了TiO2薄膜样品,研究了衬底温度、氧分压、溅射压强等生长条件对薄膜结构特性的影响.得到了反应磁控溅射法制备锐钛矿相TiO2薄膜的最佳沉积条件,并对薄膜的表面形貌进行了测量.     

基于ART2的随机抽样样本选取算法在PTA薄膜蒸发器建模中的应用

本文将ART2聚类算法与随机抽样算法相结合,提出了一种新的样本选取算法,并通过样本空间分布图和原始样本空间分布图的对比,验证了该算法的有效性.最后将该算法应用于PTA薄膜蒸发器的神经网络建模过程.     

半连续Ag纳米薄膜显微图像的多重分形谱研究

多重分形谱是分形理论中最基本的一个数学概念,也是分形理论应用中最重要的一个方面。在解决实际问题中多重分形谱主要用来描述物理量不均匀的随机概率分布,通过对半连续Ag纳米薄膜显微图像结构形貌的分析和处理,以及通过薄膜显微图像多灰度概率测度进行多重分形谱分析,用多重分形谱描述随薄膜厚度变化的Ag颗粒的空间分布的不均匀性。实验结果表明,多重分形谱是一种有意义的表征参数,能够从多分形角度对薄膜中Ag厚度的空间分布均匀性和尺寸分布进行定量化的分析和解释。     

PET表面含有聚硅氧烷微球的涂层制备及其光散射性能

将粒径为2~9μm的聚硅氧烷微球作为光散射剂均匀分散于丙烯酸树脂中,涂布于厚度为180μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜表面,挥发溶剂制得光散射薄膜。考察了聚硅氧烷微球的浓度、粒径和涂层的厚度对光散射薄膜的透光率和雾度等光学性能的影响。结果表明:聚硅氧烷微球可以在保持较高透光率的情况下,大幅度地提高光散射薄膜的雾度。当粒径为5μm的聚硅氧烷微球的添加质量百分数为25%、涂层厚度为90μm时,光散射薄膜的透光率为88%,雾度为90%,有效光散射系数可达79%,具有最佳的光散射性能。