基本体截切——教学难点研究

基本体截切,是难点课.学生反映求交线投影的方法和步骤不明确;复合截切规律不易掌握.本文从阐述表面交线基本概念入手,通过举例,详细说明求解表面交线投影的方法和步骤,并归纳出几何体基本切法交线图形的几种类型,同时指出复合截切就是基本切法综合运用的道理.再通过适量作业的练习,终于较好地突破了该教学难点,收到了预期的教学效果.     

氢化非晶硅膜的制备及其钝化机理

介绍了采用辉光放电(GD)法淀积用作钝化的氢化非晶硅(a-Si:H)膜,并将其应用于硅器件的表面钝化。结果表明,采用a-Si:H钝化,器件表面态密度显著下降,特性有较大改善。此外,对a-Si:H的钝化机理作了讨论。     

联苯胺—氢氧化钠法测定烷基磺酰氯及磺酸型表面活性剂的新方法

本文利用联苯胺—氢氧化钠法提供了一种测定十五烷基磺酰氯及烷基磺酸型阴离子表面活性剂含量的新方法。该法操作手续简便、省时、经济、精密度高,可用作工业产品的含量分析。     

刑讯逼供行为举证责任的检讨与重构

长期以来,我国刑讯逼供屡禁不止的一个重要原因,在于刑讯逼供行为的举证责任分配规则的缺位。根据公平正义的原则,对于刑讯逼供的举证责任分配应当向弱者倾斜,实行举证责任倒置,即被告人提出表面证据后,证明责任即由控方承担,控方须证明其无刑讯逼供事实达到“排除合理怀疑”程度。在此前提下,为保障举证责任的履行,还必须对相关的举证规则和配套制度进行完善。     

连玉明:界定改革要明确“三个标准”

正各地深化改革领导小组快速进入角色,有的省市已连续召开多次小组会议,部署改革任务的落实和推进。但在个别地方和部门,还存在等待观望现象。很多政府工作表面谈改革,但更多谈的还是发展问题,而非改革问题。对此,北京国际城市发展研究院院长连玉明近日提出,界定和判断一个地方的改革,必须明确三大标准:     

拉普拉斯分布表面超声背向散射的研究

假设随机粗糙表面符合拉普拉斯分布，得出了来自粗糙表面的超声背向散射声强与物体表面粗糙度，超声频率和掠射角之间的闭形解析表达式，与Boyd^[1]等报道的实验结果进行了比较，其结果的近似程度在大掠射角时比献[2]预言的更好。     

低温生长纳米ZnO薄膜的结构

采用气体放电活化反应蒸发技术(GDARE),以玻璃为衬底,在较低的温度下沉积纳米ZnO薄膜,用二次蒸镀法克服薄膜生长饱和问题、有效增加膜厚及改善薄膜质量。讨论了GDARE法低温下沉积纳米ZnO薄膜的生长过程及成膜机理。由原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射谱(XRD)分析薄膜表面形貌和晶体结构,研究结果表明,二次蒸镀法沉积的双层纳米ZnO薄膜具有更好的结晶质量及长期稳定性,薄膜沿c轴高度取向生长,内应力较小,晶粒尺寸均匀,平均粒径约35nm,表面粗糙度降低。     

酯基Gemini阳离子表面活性剂的表面化学性质与胶团化作用

通过电导率和表面张力的测定,系统地研究了不同温度下烷基-α,ω-双(二甲基酰氧乙基溴化铵)(Ⅱ-12-s)酯基G em in i表面活性剂的表面活性及其溶液表面吸附和形成胶团的热力学函数。结果表明:在298~318 K,临界胶团浓度(CM C)和平衡表面张力(γ)分别为2.51×10-6~4.24×10-6m o l/L和32.9~34.2 mN/m,表面吸附和形成胶团的自由能分别为-68.78~-77.20kJ/m o l和-40.91~-49.80 kJ/m o l,Ⅱ-12-s在溶液、表面吸附及形成胶团过程中均为熵驱动过程。     

极性小分子助剂对六甲基二硅氮烷改性纳米SiO_2的作用机理

选择水、乙醇作为助剂,利用六甲基二硅氮烷(HMDS)在气固流化床中对纳米SiO2进行表面改性处理,采用FT-IR、TEM等多种手段表征了HMDS对纳米SiO2的改性效果。水和乙醇的引入能有效提高HMDS对纳米SiO2的改性效果及纳米SiO2的疏水程度,改善其在有机相中的分散性。极性小分子助剂在HMDS改性纳米SiO2中的作用机理分析表明:水可以促进HMDS水解,又可以补充纳米SiO2的表面羟基;乙醇一方面与纳米SiO2发生酯化反应,另一部分作为分散HMDS的溶剂。     

Gemini表面活性剂的结构特性及其应用

Gem ini表面活性剂是一类新型表面活性剂,它是由两个单链头基普通表面活性剂通过化学键联接在一起,由于其特殊的结构使其具有优良的性能和广泛应用。本文对其结构特点和性能以及应用方面进行综述和分析,这种表面活性剂具有较好的应用和开发前景。