特种Nafion溶液制备及其在PEMFC中的应用研究

Nafion溶液在燃料电池、电极修饰、电化学分析、电化学催化等领域具有广泛用途。采用特种高沸点溶剂,获得了溶铸性能优良Nafion的溶液。比较溶铸Nafion膜与原始Nafion膜的IR光谱可以看出,Nafion溶液制备方法未对Nafion膜的化学组成与分子结构产生影响,但溶铸膜的分子排列更加规整有序。将该溶液在PEMFC中应用,其性能优于目前的商品水-醇体系Nafion溶液。     

用单纯形优化法研究铝箔腐蚀工艺

采用单纯形优化法研究了高纯电子铝箔腐蚀的工艺条件，通过较少的实验次数获得了最佳腐蚀条件。结果表明，单纯形优化法特别适宜于多因素条件的优化，其简单、快捷、准确，具有较好的推广价值。     

PEMFC膜电极制作工艺的研究

提出了新的膜电极结构模式──双网络Ｎａｆｉｏｎ被覆膜电极。该模型的催化剂由具有高气体扩散率的薄层Ｎａｆｉｏｎ被覆Ｐｔ／Ｃ催化剂网络与具有高质子传导率的厚层Ｎａｆｉｏｎ被覆碳黑电解质网络互联套构而成。通过优化ＰＥＭＦＣ膜电极制作工艺条件,制得了活性面积５ｃｍ~２,Ｐｔ载量０．１ｍｇ／ｃｍ~２的双网络膜电极。     

Sol-Gel法合成SrO-TiO_2-SiO_2:Eu~(3+),Bi~(3+)发光材料

用Ｓｏｌ－Ｇｅｌ法合成了ＳｒＯ－ＴｉＯ_２－ＳｉＯ_２为基质、稀土Ｅｕ~（３＋）激活的发光材料;研究了材料的合成条件,测试了样品的激发光谱、发射光谱、Ｘ－ｒａｙ衍射光谱等;用ＴＧＡ－ＤＴＡ分析了样品合成时的反应行为;获得了合成样品的最佳组成及最佳实验条件。     

挠性PI基材上镂空板用开窗口工艺研究

介绍了一种在挠性聚酰亚胺基材上开窗口的新工艺。采用化学蚀刻法,蚀刻液由氢氧化钾、氢氧化钠和添加剂组成,于一定的工艺条件下在挠性印制电路板聚酰亚胺基材上开出所需大小、形状的窗口。结合镂空板工艺实例,详细介绍了工艺过程,并讨论了取得的效果与蚀刻机理。该方法克服了传统的开窗口工艺具有的先期投入和维护成本高、精度不够的缺点,可以完成高附加值的小型、高密度的挠性电路板的生产。