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采用磁控溅射法在F-doped tin oxide(FTO)导电玻璃上溅射得到一层致密钨膜,采用水热法制备了纳米片状WO3薄膜,运用XRD、SEM、UV-DRS对产物结构形貌及光吸收性能进行了表征,并运用电化学工作站对产物的光电性能进行了检测,结果表明产物在120℃1.5 M HNO3环境中水热处理3 h后,透明性较好且光吸收性能最佳,而在450℃煅烧3 h后的光电流最大。 相似文献
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