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用卢瑟福背散射/沟道技术研究了IMeVSi ̄+衬底加温注入Al_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs超晶格和作为比较的GaAs晶体后晶格的损伤积累与注入剂量的关系。实验结果表明,在注入剂量比较小的情况下,两种晶体都只有很轻微的损伤;动态退火过程的存在抑制了晶格损伤的积累。但在较高的注入剂量下,在几乎无损伤的表面下两种晶体中都形成了损伤埋层,且GaAs中损伤峰处的损伤程度和损伤峰的宽度都大于Al_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs超晶格中的情形,根据级联碰撞理论分析了晶体中的损伤积累过程,并从化学键相对强度差异的角度定性地解释了GaAs和Al_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs超晶格实验结果的不同。 相似文献
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在100keV入射能量下.分别测量了Ne~-、Ar~+在铜靶上所产生的溅射原子角分布与离子入射角度的关系 实验结果表明在40°和70°斜入射条件下,Ar~+所产生的溅射原子角分布的溅射优先方向分别位于表面法线的两侧,溅射原子角分布关于表面法线明显不对称;而Ne~+所对应的溅射优先方向都位于表面法线方向,且溅射原子角分布关于表面法线是对称的、用TRIM程序计算了Ne~+和Ar~+在铜靶中的能损和投影射程,并依据所计算的结果用级联碰撞理论分析了实验结果,比较了Ne~+和Ar~+各自溅射机制上的不同. 相似文献
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用半经验的CNDO/2量子化学计算方法,对一组模拟超晶格AlxGa1-xAs/GaAs的原子簇体系作了第一性原理的电子结构研究。结果表明,化学键Al—As和Ga—As的强度,在AlxGa1-xAs环境中的结果均高于它们在纯晶体AlAs和GaAs环境中的数值;随着AlxGa1-xAs中X值的增大,Ga-As键强度相应地提高,但平均键强度计算结果,Ga-As总低于同环境中的Al-As。本文结果同AlxGa1-xAs/GaAs红外光谱键强度分析等实验事实相吻合,而且为离子注入AlxGa1-xAs/GaAs中引起的晶格损伤分布行为提供了合理的解释。 相似文献
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