铝基化学镀镍的研究

研究了铝基化学镀镍的工艺过程，详细介绍了化学镀镍前的处理过程，其中包括除油，浸蚀，清洗和没锌过程。研究了各因素对化学镀镍镀速的影响因素，并得出最佳配方及工艺条件。在最佳条件下，化学镀镍镀速高，镀层着附力优异，可焊性优良。     

光学薄膜镀制技术的对比研究

本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。     

新型镀镍光亮剂SN－1的研制

经过赫尔槽试验，对光亮剂各组分进行筛选，确定了丁炔二醇、环氧乙烷、环氧丙烷、环氧氯丙烷的最佳配比。以磺基甜莱碱的衍生物为整平剂，多元有机酸为干扰离子络合剂，研制了ＳＮ－１镀镍光亮剂。对加入该光亮剂的镀液及镀层的部分性能测试结果表明，该镀镍光亮剂的整平能力、分散能力、深镀能力均较好，出光速度快，有很好的应用前景。     

化学镀Ni－Cu－P合金的研究

研究了化学镀Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ合金的工艺，对镀液的稳定性和镀层的性能进行分析研究．获得含Ｎｉ８３．３１％、Ｃｕ４．０８％、Ｐ８．５９％均匀无针孔的镀层；镀层的结合力、耐蚀性良好；经热处理后镀层的硬镇达到９９３．４ＨＶ．     

新显色剂4—（2—吡啶偶氮）—邻苯三酚与Ni（Ⅱ）的显色反应研究

合成了新显色剂4-(2-吡啶偶氮)-邻苯三酚(简称PAPG),并研究该试剂与Ni(Ⅱ)的显色反应.在pH=8.6的缓冲溶液中,该试剂与Ni(Ⅱ)反应生成稳定的蓝色配合物,其最大吸收波长为608nm,表观摩尔吸光系数为3.05×10 4 l·mol-1·cm-1,镍含量在0～0.80ug/m1范围内服从比耳定律,该方法应用于人发和钢样中镍的测定,结果令人满意.     

镍膜热敏电阻的研究

介绍一种新型的温度传感器——镍膜热敏电阻。该传感器的优良特性已为人们所关注。本文着重探讨镍膜热敏电阻的制作工艺条件对其性能的影响。同时介绍了作者研制的镍膜热电阻的特性和主要技术指标。镍膜热敏电阻是一种很有开发前景的感温元件。     

磁控溅射枪的设计与应用

本文论述了磁控溅射枪的基本设计原理,分析确定了枪的电、磁参量和主要结构参数,并给出了枪的性能测试曲线。     

在电子行业应用电镀技术的现状和展望

对应用在电子行业中的合金电镀和复合技术的现状作了简要的综述,并分析电镀技术变革的主要原因,以及对新世纪里在电子行业中电镀新技术的需求和展望进行了论述.     

低温化学镀光亮镍磷合金的研究

研究了低温化学镀镍磷合金的光亮剂,讨论了温度、PH值和施镀时间对沉积速度,光亮剂对镀层耐腐性等的影响。     

浅谈增透膜的原理及其应用

本文详细分析了增透膜技术的原理以及薄膜工艺的发展,重点分析了反射光干涉在增透膜中主要的推导过程,薄膜技术在光影器械中的分类及光影器械的保养。