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磁控溅射TiAlN薄膜的制备及性能研究
引用本文:张靖华,金 杰,倪茂林,吴 锋.磁控溅射TiAlN薄膜的制备及性能研究[J].华南农业大学学报(社会科学版),2013,31(1).
作者姓名:张靖华  金 杰  倪茂林  吴 锋
作者单位:1.杭州汽轮机股份有限公司, 浙江 杭州 310022; 2.浙江工业大学 机械工程学院, 浙江 杭州 310014
摘    要:采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀的方法,在工具钢表面制备了TiAlN薄膜。运用EDS、XRD和SEM对薄膜的成分、组织结构和表面形貌进行了测试,此外,也测定了薄膜的表面显微硬度、摩擦系数。结果表明,不同硬度基体上的TiAlN薄膜成分相同,膜层致密;硬、软基体上薄膜的显微硬度最高可达到2 575 HV0.025和2 295 HV0.025,摩擦系数分别在0.45和0.50左右。

关 键 词:TiAlN薄膜  组织结构  显微硬度  摩擦系数
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