制备工艺和Cu层厚度对Ni/Cu/Fe40Co60多层膜GMR效应的影响 |
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引用本文: | 薛亚飞,郑鹉,王艾玲,姜宏伟,刘丽峰,陈志争,王利娜.制备工艺和Cu层厚度对Ni/Cu/Fe40Co60多层膜GMR效应的影响[J].科学咨询,2008(5):91-91. |
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作者姓名: | 薛亚飞 郑鹉 王艾玲 姜宏伟 刘丽峰 陈志争 王利娜 |
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作者单位: | 首都师范大学 |
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摘 要: | 实验采用离子束溅射的方法,在氧化硅衬底上制备了结构为Ta/Ni/Cu/Fe40Co60/Ta多层膜.研究了Cu层厚度对多层膜磁电阻的影响以及在制备Fe40Co60层和Ni层的过程中加相互垂直的外磁场对磁电阻的影响.实验发现,当Ta层厚度为5nm,Fe40Co60层厚度为6nm,Cu层厚度为2.6nm,Ni层厚度为6nm时,制备态薄膜GMR值达到1.6%,在各层厚度不变的情况下,在制备Fe40Co60层和Ni层过程中加相互垂直的外磁场可以使制备态薄膜的GMR值增加到2.3%.
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关 键 词: | 多层膜 巨磁电阻 自旋阀. |
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