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| φ16cm宽束离子源的设计 | |
| 引用本文： | 梁晓,廉洪舰,凌世德.φ16cm宽束离子源的设计[J].上海理工大学学报(社会科学版),1995(2). |
| 作者姓名： | 梁晓 廉洪舰 凌世德 |
| 作者单位： | 华东工业大学仪器仪表学院 |
| 摘 要： | 本文介绍了一种口径为φ１６ｃｍ的宽束离子源的设计．该源采用了多极场型放电室，结构紧凑合理，便于清洁维修以及更换离子引出系统．使用二栅引出系统时，可获得５０～１５００ｅＶ的离子束．距源１０ｃｍ处，５００ｅＶ的氩离子束的束流密度可达０．９５ｍＡ／ｃｍ２，且±８％均匀性的均匀区域达φ１４ｃｍ． |
| 关 键 词： | 离子源 离子束轰击技术 离子束辅助淀积 离子束溅射 |
Design of a 16 cm-diameter broad-beam ion source |
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| Liang Xiao,Lian Hongjian,Ling Shide.Design of a 16 cm-diameter broad-beam ion source[J].Journal of University of Shanghai For Science and Technilogy(Social Science),1995(2). | |
| Authors: | Liang Xiao Lian Hongjian Ling Shide |
| Abstract: | |
| Keywords: | ion source ion beam bombardment technology ion assisted deposition ion beam sputtering |
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