氧化锌薄膜的生长条件对其结晶及光学特性的影响 |
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引用本文: | 金永军,杜云刚,李继军.氧化锌薄膜的生长条件对其结晶及光学特性的影响[J].内蒙古工业大学学报,2009,28(4):262-267. |
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作者姓名: | 金永军 杜云刚 李继军 |
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作者单位: | 内蒙古工业大学理学院物理系,呼和浩特010051 |
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基金项目: | 基金项目:内蒙古工业大学校基金项目(X200613) |
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摘 要: | 采用射频磁控溅射方法在硅(100)衬底上制备了ZnO薄膜,运用X射线衍射仪(XRD)分析了不同的生长条件和退火处理对ZnO薄膜结晶特性的影响.应用谢乐公式讨论了不同制备条件下晶粒直径.采用金相显微镜观察样品抛光后的横截面形貌来进一步验证XRD的分析结果.研究结果表明在溅射功率为120w.衬底温度为500C时可制备沿C轴取向生长且品质较好的ZnO薄膜.退火后,应用X射线衍射仪分析可知.晶粒直径可增至20nm左右,但晶面取向有所变化.由布拉格方程讨论了退火处理对样品晶面间距的影响.以此分析了可能的薄膜应力类型的变化.经金像显微镜可观察到氧化锌的柱状生长.应用日本岛津RF-5301PC型紫外-可见分光光度计测试ZnO薄膜的光致发光谱(PL)测的激发波长为363nm和463nm
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关 键 词: | 磁控溅射 X射线衍射 柱状生长 光致发光 |
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