| 氧化锌薄膜的生长条件对其结晶及光学特性的影响 |
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| 引用本文： | 金永军,杜云刚,李继军.氧化锌薄膜的生长条件对其结晶及光学特性的影响[J].内蒙古工业大学学报,2009,28(4):262-267. |
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| 作者姓名： | 金永军 杜云刚 李继军 |
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| 作者单位： | 内蒙古工业大学理学院物理系,呼和浩特010051 |
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| 基金项目： | 基金项目：内蒙古工业大学校基金项目（X200613） |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射方法在硅（100）衬底上制备了ZnO薄膜，运用X射线衍射仪（XRD）分析了不同的生长条件和退火处理对ZnO薄膜结晶特性的影响．应用谢乐公式讨论了不同制备条件下晶粒直径．采用金相显微镜观察样品抛光后的横截面形貌来进一步验证XRD的分析结果．研究结果表明在溅射功率为120w．衬底温度为500C时可制备沿C轴取向生长且品质较好的ZnO薄膜．退火后，应用X射线衍射仪分析可知．晶粒直径可增至20nm左右，但晶面取向有所变化．由布拉格方程讨论了退火处理对样品晶面间距的影响．以此分析了可能的薄膜应力类型的变化．经金像显微镜可观察到氧化锌的柱状生长．应用日本岛津RF-5301PC型紫外-可见分光光度计测试ZnO薄膜的光致发光谱（PL）测的激发波长为363nm和463nm
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| 关 键 词： | 磁控溅射 X射线衍射 柱状生长 光致发光 |
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