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非晶碳化硅薄膜光敏材料的研究

摘要：	该成果采用直流磁控反应溅射制备非晶碳化硅薄膜光敏材料,与国内外现用的射频辉光放电分解及射频溅射法相比具有成膜速率高、溅射电压低、安全、简便、重复性好,薄膜的光性能优良等优点。其主要技术指标为:
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