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| 紫外光解氧化去除水样中阴离子表面活性剂 | |
| 引用本文： | 诸铮,张光吉,王坚.紫外光解氧化去除水样中阴离子表面活性剂[J].山西煤炭管理干部学院学报,2003,16(2):92-94. |
| 作者姓名： | 诸铮 张光吉 王坚 |
| 作者单位： | 1. 山西煤炭管理干部学院,山西,太原,030006 2. 山西省水利科学研究所,山西,太原,030012 |
| 摘 要： | 以O2 和H2 O2 为氧化剂 ,比较研究了 7种不同处理方法对水中阴离子表面活性剂 (LAS)的去除效果和影响去除效果的因素。结果表明 ,以鼓入O3 ,加入H2 O2 和辅助紫外光源照射的处理方法最好 ,2小时LAS去除率可达 88.6%。该方法H2 O2 投加量 8ml,溶液PH值为 7,LAS浓度为 10 0 μg/ml。同时 ,用本法对太原某洗涤剂厂的生产废水进行取样处理 ,LAS的去除率达 83 %。 |
| 关 键 词： | 废水 阴离子表面活性剂 紫外光解氧化 去除率 |
| 文章编号： | 1008-8881(2003)02-0092-03 |
| 修稿时间： | 2002年10月8日 |
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