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81.
刘涛 《榆林高等专科学校学报》2010,(4):30-32
采用溶胶——凝胶法制备高纯的靶材,利用PLD法生长薄膜,成功地在Si衬底上生长了高质量的ZnO薄膜,系统的研究了衬底温度对薄膜生长的影响。采用XRD对薄膜结构进行分析。XRD测试表明,大部分薄膜都具有高度的C轴择优生长取向性,只有衬底温度过高薄膜结构才发生改变。 相似文献
82.
2008年末,中国山东费县传出一则"剧毒花生"的新闻,花生中的残留农药致人死亡.此消息后被官方查证为谣言.人们继续放心大胆地食用花生,但花生种植中的严重问题并没得到解决:使用剧毒农药和农用薄膜. 相似文献
83.
采用热蒸发ZnO粉末法,以金膜为催化剂,在两片表面分别朝上和朝下的Si(100)基片上生长ZnO纳米线(样品分别标为1#和2#)。X射线衍射(XRD)图谱上只存在ZnO的(002)衍射峰,说明ZnO纳米线沿(001)择优取向。通过扫描电子显微镜(SEM)表征发现,ZnO纳米线整齐排列在Si基片上,直径在100nm左右,平均长度为4μm。通过分析得出,两种基片上生长的ZnO纳米线的生长机理是不相同的:1#样品,在基片表面上先生长ZnO薄膜,再在薄膜上生长ZnO纳米线;2#样品,ZnO纳米线直接外延生长在基片表面。结果显示基片表面的朝向影响ZnO纳米线的生长机理。 相似文献
84.
高温超导薄膜微波表面电阻测试方法 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍一种工作在12 GHz附近的高温超导薄膜微波表面电阻sR测试系统,该系统采用低损耗高介电常数的蓝宝石构成工作在TE011+δ谐振模式的介质谐振器,在77 K时,利用它对高温超导薄膜的微波表面电阻sR进行测试,提高了整个测试系统的品质因素,可成功地用于单片φ50.8 mm较大超导薄膜的无损伤测试,整个测试系统体积小、操作方便,且所需实验条件简单,测试灵敏度高,具有简便、快捷、适合于工业化生产检测的特点。 相似文献
85.
研究了以100w直管高压汞灯为光源,以TiO2为催化剂,并将TiO2固定在玻璃质反应器的内壁,对有机染料活性艳红X-3B进行光降解的可能性.结果表明,在本实验条件下,本系统对该染料的光降解作用明显.浓度为50mg.L-1的染料溶液,径30min光照,其降解率达96.7%.还探讨了多种因素对光降解的影响。 相似文献
86.
成开友 《盐城工学院学报(社会科学版)》2000,(2)
研究溅射条件和旋转磁场热处理对CoZrNb薄膜结构和性能的影响。结果表明 ,高的溅射功率和合适的氩气压强对非晶CoZrNb薄膜的形成有用 ,并且这些薄膜的矫顽力较小。旋转磁场热处理将改善薄膜的软磁性能 ,使得矫顽力进一步减小。对溅射条件对薄膜性能的影响机制和旋转磁场热处理改善薄膜性能的机制作了简要的讨论 相似文献
87.
88.
Bi代DyGaIG材料是新一代磁光存贮介质。文中用导纳矩阵法计算了多层结构磁光记录薄膜的光学特性,分析了记录层厚度和反射层厚度对记录性能的影响。从磁光记录过程的光和热效应相结合的角度提出了一个新的优化目标函数,并以此完成了Bi代DyGaIG/Al(Cr)/Glass多层结构磁光盘的优化设计。 相似文献
89.
在用直流共溅射法制备Ta/Al合金电阻薄膜的工艺中,研究了主要工艺参数,例如靶基距、气压、溅射电压和热处理时间等对薄膜电阻温度系数(TCR)的影响。采用方差分析和正交试验方法获取薄膜的最佳工艺条件和TCR值。结果表明只要适当选取和很好控制四种主要工艺参数就可以制出TCR性能优良的Ta/Al合金薄膜,同时证实了方差分析法行之有效。 相似文献
90.